掃描電鏡（SEM）檢測

    掃描電子顯微鏡（SEM）是1965年發明的較現代的細胞生物學研究工具，主要是利用二次電子信號成像來觀察樣品的表面形態，即用極狹窄的電子束去掃描樣品，通過電子束與樣品的相互作用產生各種效應，其中主要是樣品的二次電子發射。二次電子能夠產生樣品表面放大的形貌像，這個像是在樣品被掃描時按時序建立起來的，即使用逐點成像的方法獲得放大像。

一，原理：

如果入射電子撞擊樣品表面原子的外層電子，把它激發出來，就形成低能量的二次電子，在電廠的作用下它可呈曲線運動，翻越障礙進入檢測器，使表面凹凸的各個部分都能清晰成像。二次電子的強度主要與樣品表面形貌有關。二次電子和背景散射電子共同用于掃描電鏡的成像。當探針很細，分辨率高時，基本收集的是二次電子二背景電子很少，稱為二次電子成像（SEI）。

二，結構：

有3個部分組成：真空系統，電子束系統，成像系統。
a,真空系統

真空系統主要包括真空泵和真空柱兩部分。

真空柱是一個密封的柱形容器。

真空泵用來在真空柱內產生真空。

電子束系統中的燈絲在普通大氣中會迅速氧化而失效，所以在使用SEM時需要用真空，或以純氮氣或惰性氣體充滿整個真空柱。為了增大電子的平均自由程，從而使得用于成像的電子更多。

b,電子束系統

電子束系統由電子槍和電磁透鏡兩部分組成，主要用于產生一束能量分布極窄的，電子能量確定的電子束用以掃描成像。

c，成像系統

成像系統和電子束系統均內置在真空柱種。真空柱底端用于放置樣品。

三，參數：

a,分辨率

SEM的分辨率主要受到電子束直徑的限制，這里電子束直徑指的是聚焦后掃描在樣品上的照射點的尺寸。對同樣品距的二個顆粒，電子束直徑越小，越得到好的分辨效果，電子束直徑越小，信噪比越小。

b,放大倍數

在顯像管中電子束在熒光屏上最大掃描距離和在鏡筒中電子束針在試樣上最大掃描距離的比值

c,焦深

SEM的焦深是較好光學顯微鏡的300-600倍。焦深大意味著能使不平整性大的表面上下都能聚焦。

d,工作距離

從物鏡到樣品最高點的垂直距離。

如果增加工作距離，可以在其他條件不變的情況下獲得更大的場深。

如果減少工作距離，則可以在其他條件不變的情況下獲得更高的分辨率。

通常使用的工作距離在5mm-10mm之間。

e,作用體積

電子束不僅僅與樣品表面原子發生作用，它實際上與一定厚度范圍內的樣品原子發生作用，所以存在一個作用“體積”。作用體積的厚度因信號的不同而不同。

四，樣品制備：

a,金屬涂層法

應用對象是導電性較差的樣品，如高聚物材料，在進行掃描電子顯微鏡觀察之前必使樣品表面蒸發一層導電體，目的在于消除荷電現象，提高樣品表面二次電子的激發量，并減小樣品的輻射損傷。

b,離子刻蝕法

應用對象是包含結晶相和非晶相兩個組成部分的樣品。它是利用離子轟擊樣品表面時，由于兩相被離子作用的程度不同，而暴露出晶區的細微結構。

c,化學刻蝕法

應用對象同于離子刻蝕法，包括溶劑和酸刻蝕兩種方法。

酸刻蝕是利用某些氧化性較強的溶液，如發煙硝酸，高錳酸鉀等處理樣品表面，使其中一個相氧化斷鏈而溶解，而暴露出晶相的結構。

溶劑刻蝕是用某些溶劑選擇溶解高聚物材料的一個相，而暴露出另一相的結構。

五，SEM的優點：

焦深大，圖像富有立體感，特別適合于表面形貌的研究；

放大倍數范圍廣，從20倍到20萬倍，幾乎覆蓋了光學顯微鏡和TEM的范圍；

分辨率高，表面掃描二次電子成像的分辨率已經達到100埃；

制樣簡單，樣品的電子損傷小。

可同時進行顯微形貌觀察和微區成分分析。

所以SEM 在高分子材料學，生物學，醫學，冶金學等等學科領域中發揮了重要的作用。

儀器型號與圖片：

  SU8010

結果展示：

表面：

截面：